Cercetatorii IBM au anuntat descoperirea unei solutii menite sa imbunatateasca un proces cheie de fabricare a chip-urilor prin crearea unor circuite electronice mai mici. Oamenii de stiinta IBM au creat cele mai mici modele de chip-uri ultraperformante fabricate vreodata, utilizand litografia optica cu raze ultraviolete de intensitate mare (DUV, deep ultraviolet, 193 de nanometri) – o tehnologie folosita in mod curent pentru a „imprima” circuitele pe chip-uri. Marginile distincte si spatiate uniform au o dimensiune de doar 29,9 nanometri. Aceasta dimensiune reprezinta mai putin de o treime din capabilitatile de 90 de nanometri utilizate acum in productia de serie, fiind totodata sub pragul de 32 de nanometri pe care industria il considera in mod unanim ca limita pentru tehnicile bazate pe litografia optica.

Tehnicile folosite in prezent, aproape de limita

Timp de mai multe decenii, industria de semiconductoare s-a bazat pe reducerea in permanenta a dimensiunilor circuitelor pentru a creste performanta si capabilitatile chip-urilor si ale produselor care le folosesc. Insa pe masura ce parametrii chip-urilor sunt foarte aproape sa atinga limitele fundamentale in ceea ce priveste dimensiunea moleculelor si a atomilor individuali, viitorul acestei tendinte de imbunatatire permanenta, cunoscuta ca Legea lui Moore, este amenintat. Noua descoperire anuntata de IBM indica faptul ca o varianta a litografiei DUV bazata pe imbunatatirea rezolutiei prin intermediul unor medii lichide („high-index immersion”) ar putea oferi o solutie utila pentru a promova Legea lui Moore, oferind astfel industriei un timp de ragaz. „Obiectivul nostru este de a utiliza litografia optica atat cat ne sta in putinta, pentru ca industria sa nu fie nevoita sa migreze spre alternative mai scumpe decat atunci cand va fi absolut necesar”, a declarat dr. Robert D. Allen, director